Silicium anisotropique +lt; 100> Etchant ,

Code: 667471-500ml D2-231

Non disponible en dehors du Royaume-Uni et de l'Irlande

Application

Etch rate ~80microns/hour at @ 100 °C. Etches cleanly with only a deionized water rinse needed. Will not etch Au or Ta.

General description

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General description

Ethylenediamine based - for ﹤ 100 > crystal orientation

Packaging

500 mL in glass bottle

bp>240 °C
density1.001 g/mL at 25 °C
Quality Level100
refractive indexn20/D 1.484
Hazard Class8
Un Number2922
Pack Group3
Ce produit répond aux critères suivants: